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粉末原料檢測：研磨液

粉末原料檢測：研磨液

CMP Slurry（CMP 研磨液）是化學機械平坦化（CMP,Chemical Mechanical Planarization）過程中的關鍵材料之一。它通過獨特的化學配方和大量磨料顆粒，結合化學反應與機械磨蝕，實現對晶片表面材料的選擇性去除。